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Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Synchronous Plasma Pulsing for Etch Applications

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00647616

Soumis le : vendredi 2 décembre 2011-13:36:41

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:23

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00647616 , version 1 (02-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00647616 , version 1

Citer

Maxime Darnon, C. Petit-Etienne, E. Pargon, G. Cunge, L. Vallier, et al.. Synchronous Plasma Pulsing for Etch Applications. China Semiconductor Technology International Conference (CSTIC), Mar 2010, Shanghaï, China. ⟨hal-00647616⟩

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