Nanoimprint lithography - a next generation high volume lithography technique - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Semiconductor Technology Année : 2004

Nanoimprint lithography - a next generation high volume lithography technique

R. Pelzer
  • Fonction : Auteur
P. Lindner
  • Fonction : Auteur
T. Glinsner
  • Fonction : Auteur
B. Vratzov
  • Fonction : Auteur
S. Landis
  • Fonction : Auteur
P. Kettner
  • Fonction : Auteur
C. Schaefer
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00385735 , version 1 (20-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00385735 , version 1

Citer

R. Pelzer, P. Lindner, T. Glinsner, B. Vratzov, C. Gourgon, et al.. Nanoimprint lithography - a next generation high volume lithography technique. Semiconductor Technology, 2004, 29 (7), pp.86-91. ⟨hal-00385735⟩
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