Efficiency of reducing and oxidizing ash plasmas in preventing metallic barrier diffusion into porous SiOCH - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2008

Efficiency of reducing and oxidizing ash plasmas in preventing metallic barrier diffusion into porous SiOCH

N. Posseme
  • Fonction : Auteur
T. Chevolleau
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
T. David
  • Fonction : Auteur
Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
J.P. Barnes
  • Fonction : Auteur
O. Louveau
  • Fonction : Auteur
C. Licitra
D. Jalabert
  • Fonction : Auteur
H. Feldis
  • Fonction : Auteur
M. Fayolle
O. Joubert
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

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https://hal.science/hal-00387514

Soumis le : lundi 25 mai 2009-15:24:54

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:00:56

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00387514 , version 1 (25-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00387514 , version 1

Citer

N. Posseme, T. Chevolleau, T. David, Maxime Darnon, J.P. Barnes, et al.. Efficiency of reducing and oxidizing ash plasmas in preventing metallic barrier diffusion into porous SiOCH. Microelectronic Engineering, 2008, 85, pp.1842-1849. ⟨hal-00387514⟩

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