NIL processes and material characterization on transparent substrates for optical applications

N. Chaix; C. Gourgon; C. Perret; S. Decossas; S. Landis; V. Lambertini; N. L. Piran

Communication Dans Un Congrès Année : 2008

NIL processes and material characterization on transparent substrates for optical applications

(1) , (1) , (1) , (1) , (2) , ,

1
2

N. Chaix

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

C. Gourgon

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

C. Perret

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

S. Decossas

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

S. Landis

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

V. Lambertini

Fonction : Auteur

N. L. Piran

Fonction : Auteur

Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00390384

Soumis le : mardi 2 juin 2009-08:58:18

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:26

Dates et versions

hal-00390384 , version 1 (02-06-2009)

Identifiants

HAL Id : hal-00390384 , version 1

Citer

N. Chaix, C. Gourgon, C. Perret, S. Decossas, S. Landis, et al.. NIL processes and material characterization on transparent substrates for optical applications. Electron, Ion, and Photon Beam technology and Nanofabrication conference - EIPBN 2008, 2008, Portland, United States. ⟨hal-00390384⟩

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