Carboxylic Acids as Oxygen Supplying Agents for Atomic Layer Deposition of High-k Thin Films

E. Rauwel; F. Ducroquet; P. Rauwel; M.-G. Willinger; I. Matko; D. Kiselev N. Pin

Article Dans Une Revue ECS Transactions Année : 2008

Carboxylic Acids as Oxygen Supplying Agents for Atomic Layer Deposition of High-k Thin Films

, (1) , , , ,

1

E. Rauwel

Fonction : Auteur

F. Ducroquet

Fonction : Auteur
PersonId : 171005
IdHAL : frederique-ducroquet
ORCID : 0000-0001-8770-9650
IdRef : 081930062

Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation

P. Rauwel

Fonction : Auteur

M.-G. Willinger

Fonction : Auteur

I. Matko

Fonction : Auteur

D. Kiselev N. Pin

Fonction : Auteur

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Chahla Domenget : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00391673

Soumis le : jeudi 4 juin 2009-14:24:05

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:17:24

Dates et versions

hal-00391673 , version 1 (04-06-2009)

Identifiants

HAL Id : hal-00391673 , version 1

Citer

E. Rauwel, F. Ducroquet, P. Rauwel, M.-G. Willinger, I. Matko, et al.. Carboxylic Acids as Oxygen Supplying Agents for Atomic Layer Deposition of High-k Thin Films. ECS Transactions, 2008, 16 (4, 279-289). ⟨hal-00391673⟩

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