Communication Dans Un Congrès
Année : 2008
Chahla Domenget : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00392109
Soumis le : vendredi 5 juin 2009-15:10:13
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:27:21
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00392109 , version 1
Citer
E. Rauwel, F. Ducroquet, P. Rauwel, M.-G. Willinger, I. Matko, et al.. Carboxylic Acids as Oxygen Supplying Agents for Atomic Layer Deposition of High-k Thin Films. Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science, Joint Meeting (214th Meeting of the Electrochemical Soc. and 2008 Fall Meeting of the Electrochemical Soc. of Japan),, Symposium: E2 - Atomic Layer Deposition, Honolulu, Hawaii,, Oct 2008, France, France. ⟨hal-00392109⟩
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