Stamp replication for thermal and UV nanoimprint lithography using a UV sensitive silsesquioxane resist - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2009

Stamp replication for thermal and UV nanoimprint lithography using a UV sensitive silsesquioxane resist

N. Kehagias
  • Fonction : Auteur
V. Reboud
  • Fonction : Auteur
J. de Girolamo
  • Fonction : Auteur
M. Chouiki
  • Fonction : Auteur
M. Zelsmann
Laboratoire des technologies de la microélectronique
J. Boussey-Said
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
C.M Sotomayor Torres
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00394507

Soumis le : jeudi 11 juin 2009-20:51:12

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:42

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00394507 , version 1 (11-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00394507 , version 1

Citer

N. Kehagias, V. Reboud, J. de Girolamo, M. Chouiki, M. Zelsmann, et al.. Stamp replication for thermal and UV nanoimprint lithography using a UV sensitive silsesquioxane resist. Microelectronic Engineering, 2009, pp.86, 4-6 (2009) 776-778. ⟨hal-00394507⟩

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