Impact of downstream ash plasmas on ultra low-k materials - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Solid State Phenomena Année : 2005
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397053 , version 1 (19-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397053 , version 1

Citer

N. Posseme, T. David, P. Meininger, O. Louveau, T. Chevolleau, et al.. Impact of downstream ash plasmas on ultra low-k materials. Solid State Phenomena, 2005, pp.103-104 (2005), 337-340. ⟨hal-00397053⟩
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