Materials science- The cutting edge of plasma etching - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Science Année : 2008

Materials science- The cutting edge of plasma etching

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00397110 , version 1 (19-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397110 , version 1

Citer

T. Lill, O. R. Joubert. Materials science- The cutting edge of plasma etching. Science, 2008, pp.319, 1050-1051, (2008). ⟨hal-00397110⟩
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