Dielectric Trenches Patterning: Metallic Vs Organic Hard Mask - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Dielectric Trenches Patterning: Metallic Vs Organic Hard Mask

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00398866 , version 1 (25-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00398866 , version 1

Citer

Maxime Darnon, T. Chevolleau, T. David, D. Perret, J. Torres, et al.. Dielectric Trenches Patterning: Metallic Vs Organic Hard Mask. Proceeding of MAM, Metal Advanced Metallization (Workshop), 2007, bruges, Belgium. ⟨hal-00398866⟩
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