Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00400477
Soumis le : mardi 30 juin 2009-18:58:02
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:05
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00400477 , version 1
Citer
T. Chevolleau, D. Eon, Maxime Darnon, T. David, L. Vallier, et al.. Patterning of narrow SiOCH trenches using the late porogen removal process. AVS, 53rd International AVS Symposium, 2006, san francisco, United States. ⟨hal-00400477⟩
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