Chamber Walls Coatings during hard mask patterning of Ultra Low-k Materials: Consequences on Cleaning Strategies - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Chamber Walls Coatings during hard mask patterning of Ultra Low-k Materials: Consequences on Cleaning Strategies

T. Chevolleau
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
T. David
  • Fonction : Auteur
N. Posseme
  • Fonction : Auteur
J. Torres
  • Fonction : Auteur
O. Joubert
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

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https://hal.science/hal-00461594

Soumis le : vendredi 5 mars 2010-09:51:03

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:00:55

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00461594 , version 1 (05-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00461594 , version 1

Citer

T. Chevolleau, Maxime Darnon, T. David, N. Posseme, J. Torres, et al.. Chamber Walls Coatings during hard mask patterning of Ultra Low-k Materials: Consequences on Cleaning Strategies. AVS 54th international symposium, 2007, United States. ⟨hal-00461594⟩

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