Communication Dans Un Congrès
Année : 2001
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00481950
Soumis le : vendredi 7 mai 2010-15:53:09
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:43
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00481950 , version 1
Citer
G. Cunge, J. Foucher, L. Vallier, O. Joubert. Plasma etching of nano-scale feature in Silicon : application to ultimate CMOS gates and quantum nanowires. ISPC, 15th International Symposium on Plasma Chemistry, 2001, Orléans, France. ⟨hal-00481950⟩
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