Plasma-wall interaction studies during gate etch processes - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2002

Plasma-wall interaction studies during gate etch processes

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00486306

Soumis le : mardi 25 mai 2010-15:09:15

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:25

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00486306 , version 1 (25-05-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00486306 , version 1

Citer

G. Cunge, M. Kogelschatz, N. Sadeghi, L. Vallier, O. Joubert. Plasma-wall interaction studies during gate etch processes. AVS, 49th International AVS Symposium & Topical Conferences, 2002, Denver, United States. ⟨hal-00486306⟩

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