Communication Dans Un Congrès
Année : 2004
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00488334
Soumis le : mardi 1 juin 2010-17:28:25
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:42
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00488334 , version 1
Citer
T. Spraks, S. Rauf, G. Cunge, L. Vallier. An isotropic SiGe etch process for the fabrication of Silicon On nothing transistors. AVS, 51st International AVS Symposium, 2004, Anaheim, United States. ⟨hal-00488334⟩
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