Communication Dans Un Congrès
Année : 1999
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00494549
Soumis le : mercredi 23 juin 2010-15:20:37
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:17:45
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00494549 , version 1
Citer
O. Joubert, C. Monget, L. Vallier, T. Weidman. Process optimization of plasma polymerized resists for advanced lithography applications. 46th National AVS symposium & Topical conferences, 1999, Seattle, United States. ⟨hal-00494549⟩
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