Process optimization of plasma polymerized resists for advanced lithography applications - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 1999

Process optimization of plasma polymerized resists for advanced lithography applications

O. Joubert
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
C. Monget
  • Fonction : Auteur
L. Vallier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
T. Weidman
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00494549

Soumis le : mercredi 23 juin 2010-15:20:37

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:26

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00494549 , version 1 (23-06-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00494549 , version 1

Citer

O. Joubert, C. Monget, L. Vallier, T. Weidman. Process optimization of plasma polymerized resists for advanced lithography applications. 46th National AVS symposium & Topical conferences, 1999, Seattle, United States. ⟨hal-00494549⟩

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