Communication Dans Un Congrès
Année : 1999
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00494565
Soumis le : mercredi 23 juin 2010-15:32:52
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:26
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00494565 , version 1
Citer
H.C Lee, G.S. Hwang, H.S Lee, K.P Giapis, L. Desvoires, et al.. Does mask charging influence sidewall trench formation ?. 46th National AVS symposium & Topical conferences, 1999, Seattle, United States. ⟨hal-00494565⟩
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