Tuning the dipole at the High-/SiO2 interface in advanced metal gate stacks.

M. Charbonnier (1) , Cédric Leroux (1) , V. Cosnier (2) , P. Besson (1) , F. Martin (1) , G. Ghibaudo (1) , G. Reimbold (1)

1 IMEP-LAHC - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
2 ST Microélectronics

Domaines: Autre [cond-mat.other]; Micro et nanotechnologies/Microélectronique

M. Charbonnier, Cédric Leroux, V. Cosnier, P. Besson, F. Martin, et al.. Tuning the dipole at the High-/SiO2 interface in advanced metal gate stacks.. Microelectronic Engineering, 2009, 86, pp.1740-1742. ⟨hal-00596131⟩