Communication Dans Un Congrès
Année : 2010
Chahla Domenget : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00604646
Soumis le : mercredi 29 juin 2011-14:13:22
Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-15:27:36
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00604646 , version 1
Citer
Cuiqin Xu, P. Batude, C. Rauer, C. Le Royer, L. Hutin, et al.. Ion-Ioff performance analysis of FDSOI MOSFETs with low processing temperature. Solid-State Devices Meeting, Sep 2010, tokyo, Japan. ⟨hal-00604646⟩
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