Metallic oxygen barrier diffusion applied to high-k deposition WODIM - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00604733 , version 1 (29-06-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00604733 , version 1

Citer

E. Rauwel, P. Rauwel, F. Ducroquet, I. Matko, A. Lourenço. Metallic oxygen barrier diffusion applied to high-k deposition WODIM. 16th Workshop on Dielectric Materials, Jun 2010, Bratislava, Slovakia. ⟨hal-00604733⟩
83 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More