Optimization of double patterning split by analyzing diffractive orders in the pupil plane - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Photomask Technology 2010 Proceedings Année : 2010

Optimization of double patterning split by analyzing diffractive orders in the pupil plane

N. Zeggaoui
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
V. Farys
  • Fonction : Auteur
STMicroelectronics [Crolles]
Y. Trouiller
  • Fonction : Auteur
E. Yesilada
  • Fonction : Auteur
F. Robert
M. Besacier
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

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https://hal.science/hal-00623448

Soumis le : mercredi 14 septembre 2011-11:57:32

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:43

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Dates et versions

hal-00623448 , version 1 (14-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00623448 , version 1

Citer

N. Zeggaoui, V. Farys, Y. Trouiller, E. Yesilada, F. Robert, et al.. Optimization of double patterning split by analyzing diffractive orders in the pupil plane. Photomask Technology 2010 Proceedings, 2010, Vol. 7823, 24 September 2010. ⟨hal-00623448⟩

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