Article Dans Une Revue
Photomask Technology 2010 Proceedings
Année : 2010
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00623448
Soumis le : mercredi 14 septembre 2011-11:57:32
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:43
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00623448 , version 1
Citer
N. Zeggaoui, V. Farys, Y. Trouiller, E. Yesilada, F. Robert, et al.. Optimization of double patterning split by analyzing diffractive orders in the pupil plane. Photomask Technology 2010 Proceedings, 2010, Vol. 7823, 24 September 2010. ⟨hal-00623448⟩
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