Plasma etching processes for nanoCMOS and nanoelectronics devices

E. Pargon (1) , G. Cunge (1) , Maxime Darnon (1) , L. Vallier (1) , P. Bodart (1) , C. Petit-Etienne (1) , M. Haass (1) , O. Luere (1) , M. Brihoum (1) , T. David (1, 2) , T. Chevolleau (1) , O. Joubert (1)

1 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

E. Pargon, G. Cunge, Maxime Darnon, L. Vallier, P. Bodart, et al.. Plasma etching processes for nanoCMOS and nanoelectronics devices. Minatech upstream crossroad, 2010, Grenoble, France. ⟨hal-00643917⟩