Study of the modifications induced by plasma VUV light on 193nm photoresist for the development of plasma cure treatments - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Study of the modifications induced by plasma VUV light on 193nm photoresist for the development of plasma cure treatments

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00644015

Soumis le : mercredi 23 novembre 2011-14:16:21

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:38

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00644015 , version 1 (23-11-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00644015 , version 1

Citer

M. Fouchier, E. Pargon, L. Azarnouche, O. Luere, K. Menguelti, et al.. Study of the modifications induced by plasma VUV light on 193nm photoresist for the development of plasma cure treatments. 63rd Gaseous Electronics Conference (GEC), Oct 2010, Paris, France. ⟨hal-00644015⟩

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