Process for reversing tone of patterning on integrated circuit and structural process for nanoscale fabrication - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2011

Process for reversing tone of patterning on integrated circuit and structural process for nanoscale fabrication

L.A Clevenger
  • Fonction : Auteur
Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
A.D Lisi
  • Fonction : Auteur
S.N. Nitta
  • Fonction : Auteur

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00647704

Soumis le : vendredi 2 décembre 2011-15:15:32

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:30:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00647704 , version 1 (02-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00647704 , version 1

Citer

L.A Clevenger, Maxime Darnon, A.D Lisi, S.N. Nitta. Process for reversing tone of patterning on integrated circuit and structural process for nanoscale fabrication. Patent n° : US 2011/0108989 A1 US7939446. 2011. ⟨hal-00647704⟩

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