Forming Interconnects with Air Gaps - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2010

Forming Interconnects with Air Gaps

S.S. Choi
  • Fonction : Auteur
L.A Clevenger
  • Fonction : Auteur
D.C. Edelstein
  • Fonction : Auteur
S.V. Nitta
  • Fonction : Auteur
S. Ponoth
  • Fonction : Auteur
P. Leung
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00647715 , version 1 (02-12-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00647715 , version 1

Citer

S.S. Choi, L.A Clevenger, Maxime Darnon, D.C. Edelstein, S.V. Nitta, et al.. Forming Interconnects with Air Gaps. Patent n° : US7,790,601B1 12/561,651. 2010. ⟨hal-00647715⟩
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