Influence of process parameters and thermal treatment on the properties of high k oxides grown using atomic layer deposition for resistive RAM applications - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Influence of process parameters and thermal treatment on the properties of high k oxides grown using atomic layer deposition for resistive RAM applications

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00669526

Soumis le : lundi 13 février 2012-14:06:52

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:13

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00669526 , version 1 (13-02-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00669526 , version 1

Citer

A. Salaün, H. Grampeix, V. Beugin, C. Mannequin, P. Gonon, et al.. Influence of process parameters and thermal treatment on the properties of high k oxides grown using atomic layer deposition for resistive RAM applications. MAM 2012, Mar 2012, Grenoble, France. ⟨hal-00669526⟩

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