Fabrication of SiC nanopillars by inductively coupled SF6/O2 plasma.

J.H Choi.; L. Latu-Romain.; F. Dhalluin.; T. Chevolleau.; B. Salem; T. Baron.; D. Chaussende.; Edwige Bano

Article Dans Une Revue Materials Science Forum Année : 2012

Fabrication of SiC nanopillars by inductively coupled SF6/O2 plasma.

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1

J.H Choi.

Fonction : Auteur

L. Latu-Romain.

Fonction : Auteur
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IdHAL : laurence-latu-romain
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IdRef : 117889814

Laboratoire des technologies de la microélectronique

F. Dhalluin.

Fonction : Auteur

T. Chevolleau.

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

B. Salem

Fonction : Auteur
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IdHAL : bassem-salem
ORCID : 0000-0001-8038-3205
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Laboratoire des technologies de la microélectronique

T. Baron.

Fonction : Auteur
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IdHAL : thierry-baron
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Laboratoire des technologies de la microélectronique

D. Chaussende.

Fonction : Auteur
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CV

Edwige Bano

Fonction : Auteur
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Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00762143

Soumis le : jeudi 6 décembre 2012-15:13:26

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:00:56

Dates et versions

hal-00762143 , version 1 (06-12-2012)

Identifiants

HAL Id : hal-00762143 , version 1

Citer

J.H Choi., L. Latu-Romain., F. Dhalluin., T. Chevolleau., B. Salem, et al.. Fabrication of SiC nanopillars by inductively coupled SF6/O2 plasma.. Materials Science Forum, 2012, 711, pp. 66-69. ⟨hal-00762143⟩

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Fabrication of SiC nanopillars by inductively coupled SF6/O2 plasma.

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