Growth & Characterization of Si/SixGe1-x Axial heterostructures using VLS and VSS mechanism by RP-CVD - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Growth & Characterization of Si/SixGe1-x Axial heterostructures using VLS and VSS mechanism by RP-CVD

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00777306 , version 1 (17-01-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00777306 , version 1

Citer

P. Periwal, T. Baron, L. Latu-Romain, G. Rosaz, S. Bassem, et al.. Growth & Characterization of Si/SixGe1-x Axial heterostructures using VLS and VSS mechanism by RP-CVD. E-MRS Warsaw, 2012, Sep 2012, Warsaw, Poland. ⟨hal-00777306⟩
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