Electrical characterisation of Vertical Gate-All-Around Si and SiGe Nanowires Field Effect Transistors - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Electrical characterisation of Vertical Gate-All-Around Si and SiGe Nanowires Field Effect Transistors

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00777309 , version 1 (17-01-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00777309 , version 1

Citer

B. Salem, G. Rosaz, N. Pauc, P. Gentile, A. Potié, et al.. Electrical characterisation of Vertical Gate-All-Around Si and SiGe Nanowires Field Effect Transistors. E-MRS Warsaw, 2012, Sep 2012, Warsaw, Poland. ⟨hal-00777309⟩
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