Critical Review: Pulsed High-Density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology A Année : 2012

Critical Review: Pulsed High-Density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes

S. Banna
  • Fonction : Auteur
A. Agarwal
  • Fonction : Auteur
T. Lill
  • Fonction : Auteur
G. Cunge
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
E. Pargon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
O. Joubert
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

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Soumis le : vendredi 5 avril 2013-19:56:51

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hal-00808668 , version 1 (05-04-2013)

Identifiants

Citer

S. Banna, A. Agarwal, T. Lill, G. Cunge, Maxime Darnon, et al.. Critical Review: Pulsed High-Density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2012, pp.30, 040801. ⟨10.1116/1.4716176⟩. ⟨hal-00808668⟩

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