Towards new plasma technologies for 22 nm gate etch processes and beyond - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Towards new plasma technologies for 22 nm gate etch processes and beyond

S. Banna.
  • Fonction : Auteur
T. Lill.
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00808682 , version 1 (05-04-2013)

Identifiants

Citer

O. Joubert, Maxime Darnon, G. Cunge, E. Pargon, T. David, et al.. Towards new plasma technologies for 22 nm gate etch processes and beyond. SPIE Advanced Lithography, 2012, San Jose, United States. pp.83280D, ⟨10.1117/12.920312⟩. ⟨hal-00808682⟩
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