Communication Dans Un Congrès
Année : 2012
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00808842
Soumis le : dimanche 7 avril 2013-19:17:26
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:19:39
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00808842 , version 1
Citer
M. Brihoum, K. Menguelti, G. Cunge, E. Pargon, O. Joubert. Impact of synchronized pulsed conditions on HBr cure to LWR reduction and etch resistance improvement of 193 nm photoresist. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 5th International Workshop, Mar 2012, Grenoble, France. ⟨hal-00808842⟩
42
Consultations
0
Téléchargements