Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2013
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00860913
Soumis le : mercredi 11 septembre 2013-14:27:45
Dernière modification le : lundi 12 février 2024-15:18:37
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00860913 , version 1
- DOI : 10.1088/0022-3727/46/26/265303
Citer
R.L. Bruce, S. Engelmann, S. Purushothaman, W. Volksen, T.J. Frot, et al.. Investigation of plasma etch damage to porous oxycarbosilane ultra low- k dielectric. Journal of Physics D: Applied Physics, 2013, 46(26), pp.265303. ⟨10.1088/0022-3727/46/26/265303⟩. ⟨hal-00860913⟩
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