Selective etch back process for carbon nanotubes integration

Maxime Darnon; G.W. Gibson; P.P. Joshi; R.M. Martin; Y. Zang

Brevet Année : 2013

Selective etch back process for carbon nanotubes integration

(1) , , , ,

1

Maxime Darnon

Fonction : Auteur
PersonId : 17906
IdHAL : maxime-darnon
ORCID : 0000-0002-6188-7157
IdRef : 124051758

Laboratoire des technologies de la microélectronique

CV

G.W. Gibson

Fonction : Auteur

P.P. Joshi

Fonction : Auteur

R.M. Martin

Fonction : Auteur

Y. Zang

Fonction : Auteur

Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00860918

Soumis le : mercredi 11 septembre 2013-14:35:13

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:13

Dates et versions

hal-00860918 , version 1 (11-09-2013)

Identifiants

HAL Id : hal-00860918 , version 1

Citer

Maxime Darnon, G.W. Gibson, P.P. Joshi, R.M. Martin, Y. Zang. Selective etch back process for carbon nanotubes integration. Patent n° : US 8,449,781. 2013. ⟨hal-00860918⟩

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