Pulsed plasmas for etching at the nanoscale - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Pulsed plasmas for etching at the nanoscale

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00860922

Soumis le : mercredi 11 septembre 2013-14:38:26

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:38

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00860922 , version 1 (11-09-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00860922 , version 1

Citer

Maxime Darnon, G. Cunge, C. Petit Etienne, E. Pargon, L. Vallier, et al.. Pulsed plasmas for etching at the nanoscale. Journées Nationales des Technologies Émergentes, May 2013, Evian les bains, France. ⟨hal-00860922⟩

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