Communication Dans Un Congrès
Année : 2013
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00908485
Soumis le : samedi 23 novembre 2013-16:24:21
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:21
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00908485 , version 1
Citer
J. Pointet, A. Bsiesy, P. Gonon, Corentin Vallée, B. Fléchet. Growth of high dielectric constant TiO2 films in capacitors using a low temperature ALD process. E-MRS 2013 Spring Meeting, May 2013, Strasbourg, France. ⟨hal-00908485⟩
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