Method of patterning photosensitive material on a substrate containing a latent acid generator - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2013

Method of patterning photosensitive material on a substrate containing a latent acid generator

Maxime Darnon
Laboratoire des technologies de la microélectronique
CV
P. P. Joshi
  • Fonction : Auteur
Q. Lin
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00925758

Soumis le : mercredi 8 janvier 2014-15:08:45

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00925758 , version 1 (08-01-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00925758 , version 1

Citer

Maxime Darnon, P. P. Joshi, Q. Lin. Method of patterning photosensitive material on a substrate containing a latent acid generator. Patent n° : US 8,475,667. 2013. ⟨hal-00925758⟩

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