Process for making a gate for a short channel CMOS transistor structure - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2004

Process for making a gate for a short channel CMOS transistor structure

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00944882 , version 1 (11-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00944882 , version 1

Citer

O. Joubert, G. Cunge, J. Foucher, D. Fuard, M. Bonvalot, et al.. Process for making a gate for a short channel CMOS transistor structure. Patent n° : WO0205336. 2004. ⟨hal-00944882⟩
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