Identification of halogen containing radicals in silicon etching plasmas and density measurement by UV broad band absorption spectroscopy - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Physics D: Applied Physics Année : 2004

Identification of halogen containing radicals in silicon etching plasmas and density measurement by UV broad band absorption spectroscopy

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00944895

Soumis le : mardi 11 février 2014-13:54:01

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:44

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Dates et versions

hal-00944895 , version 1 (11-02-2014)

Identifiants

Citer

M. Kogelschatz, G. Cunge, N. Sadeghi. Identification of halogen containing radicals in silicon etching plasmas and density measurement by UV broad band absorption spectroscopy. Journal of Physics D: Applied Physics, 2004, 37 (14), pp.1954. ⟨10.1088/0022-3727/37/14/010⟩. ⟨hal-00944895⟩

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