Atomic-scale silicon etching control using pulsed Cl-2 plasma

C. Petit-Etienne (1) , Maxime Darnon (1) , P. Bodart (1) , M. Fouchier (1) , G. Cunge (1) , E. Pargon (1) , L. Vallier (1) , O. Joubert (1) , S. Banna

1 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines: Physique [physics]

C. Petit-Etienne, Maxime Darnon, P. Bodart, M. Fouchier, G. Cunge, et al.. Atomic-scale silicon etching control using pulsed Cl-2 plasma. Journal of Vacuum Science and Technology, 2013, 31 (1), pp.011201. ⟨10.1116/1.4768717⟩. ⟨hal-00944924⟩