PS-b-PDMS graphoepitaxy in trilayer 193 nm photolithography patterns and transfer etching - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

PS-b-PDMS graphoepitaxy in trilayer 193 nm photolithography patterns and transfer etching

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00946840

Soumis le : vendredi 14 février 2014-11:23:55

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:38

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00946840 , version 1 (14-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00946840 , version 1

Citer

S. Archambault, M. Salaün, C. Girardot, M. Delalande, G. Cunge, et al.. PS-b-PDMS graphoepitaxy in trilayer 193 nm photolithography patterns and transfer etching. Micro- and Nano-Engineering conference- MNE 2013, Sep 2013, Londres, United Kingdom. ⟨hal-00946840⟩

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