Surface chemistry and restructuring in thin-film Lan+1NinO3n+1 (n ¼ 1, 2 and 3) Ruddlesden-Popper oxides - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue J. Mater. Chem. A, Année : 2017

Surface chemistry and restructuring in thin-film Lan+1NinO3n+1 (n ¼ 1, 2 and 3) Ruddlesden-Popper oxides

K.-T. Wu
  • Fonction : Auteur
H. T´ellez
  • Fonction : Auteur
J. Druce
  • Fonction : Auteur
F. Yang
  • Fonction : Auteur
D. W. Mccom
  • Fonction : Auteur
T. Ishihara
  • Fonction : Auteur
J. A. Kilnera
  • Fonction : Auteur
S. J. Skinner
  • Fonction : Auteur

Domaines

Matériaux

Dates et versions

hal-01758852 , version 1 (04-04-2018)

Identifiants

Citer

K.-T. Wu, H. T´ellez, J. Druce, Monica Burriel, F. Yang, et al.. Surface chemistry and restructuring in thin-film Lan+1NinO3n+1 (n ¼ 1, 2 and 3) Ruddlesden-Popper oxides. J. Mater. Chem. A,, 2017, 5, pp.9003-9013. ⟨10.1039/c7ta01781b⟩. ⟨hal-01758852⟩
28 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More