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tel-00135902v1  Theses
Vincent Farys. Influence des défauts enterrés dans les masques pour la lithographie Extreme Ultra Violet
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2006. Français. ⟨NNT : ⟩
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hal-00941631v1  Conference papers
Anna SzücsJonathan PlanchotVincent FarysEmek YesiladaClovis Alleaume et al.  Best focus shift mitigation for extending the depth of focus
Advanced Lithography, SPIE 2013, Feb 2013, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2011114⟩