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Florian Dhalluin. Nanofils de Silicium : Dépôt chimique en phase vapeur assisté par catalyseurs métalliques et prémices d'intégration.
Matière Condensée [cond-mat]. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2009. Français
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David Fuard. Etude et caractérisation avancées des procédés plasma pour les technologies sub - 0.1 µm
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université d'Orléans, 2003. Français
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Mohamed El Kodadi. Développement des techniques de scatterométrie en temps réel pour le suivi des procédés de gravure plasma
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université de Grenoble, 2010. Français
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Sébastien Soulan. Développement de la scatterométrie dynamique pour le suivi en temps réel de procédés. Application à la microélectronique.
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2008. Français
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Cédric Sire. Propriétés électriques à l'échelle nanométrique des diélectriques dans les structures MIM et MOS
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2009. Français
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Jamal Tallal. Développement de techniques de fabrication collectives de dispositifs électroniques à nanostructure unique.
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2007. Français
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Vincent Farys. Influence des défauts enterrés dans les masques pour la lithographie Extreme Ultra Violet
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2006. Français
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Thomas Bertaud. Élaboration et caractérisation large bande de matériaux "high-k" en structure "MIM
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Institut National Polytechnique de Grenoble - INPG, 2010. Français
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Maxime Darnon. Les Procédés par Plasmas Impliqués dans l'Intégration des Matériaux SiOCH Poreux pour les Interconnexions en Microélectronique
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2007. Français
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Clément Pribat. Etudes morphologiques et cinétiques de l'élaboration de nano-objets cristallins (Si & SiGe) par RTCVD
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2010. Français
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Philippe Velha. Ingénierie de mode en optique intégrée sur silicium sur isolant
Physique Atomique [physics.atom-ph]. Université Paris Sud - Paris XI, 2008. Français
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Martin Kogelschatz. Etude des interactions plasma–surface pendant la gravure du silicium dans des plasmas HBr/Cl2/O2
Micro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2004. Français
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Florence Brossard. Epitaxies Si/SiGe(C) pour transistors bipolaires avancés
Matière Condensée [cond-mat]. Université Joseph-Fourier - Grenoble I, 2007. Français