Plasma deposition—Impact of ions in plasma enhanced chemical vapor deposition, plasma enhanced atomic layer deposition, and applications to area selective deposition - Institut des matériaux Jean Rouxel Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology A Année : 2020

Plasma deposition—Impact of ions in plasma enhanced chemical vapor deposition, plasma enhanced atomic layer deposition, and applications to area selective deposition

Agnès Granier
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hal-02586207 , version 1 (04-01-2021)

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Citer

Christophe Vallee, Marceline Bonvalot, Samia Belahcen, Taguhi Yeghoyan, Moustapha Jaffal, et al.. Plasma deposition—Impact of ions in plasma enhanced chemical vapor deposition, plasma enhanced atomic layer deposition, and applications to area selective deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2020, 38 (3), pp.033007. ⟨10.1116/1.5140841⟩. ⟨hal-02586207⟩
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