Control of stoichiometry and morphology in polycrystalline V2O3 thin films using oxygen buffers - Institut des matériaux Jean Rouxel Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Materials Science Année : 2020

Control of stoichiometry and morphology in polycrystalline V2O3 thin films using oxygen buffers

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Citer

Jonathan Rupp, Benoît Corraze, Marie-Paule Besland, Laurent Cario, Julien Tranchant, et al.. Control of stoichiometry and morphology in polycrystalline V2O3 thin films using oxygen buffers. Journal of Materials Science, 2020, 55 (30), pp.14717-14727. ⟨10.1007/s10853-020-05028-0⟩. ⟨hal-02932318⟩

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