HfO2-based solid solutions for high-k/metal gate stack properties improvement

C. Dubourdieu (1, 2) , V. Brizé , J. Ubrig , S. Margueron , I. Matko (2) , E. Rauwel (1, 2) , F. Ducroquet (2) , N. Rochat (2) , A. Klein , B. Höllander (2)

1 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
2 IMEP-LAHC - Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation

Domaines: Micro et nanotechnologies/Microélectronique

C. Dubourdieu, V. Brizé, J. Ubrig, S. Margueron, I. Matko, et al.. HfO2-based solid solutions for high-k/metal gate stack properties improvement. Invited paper, 15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, Berlin,, Jun 2008, xx, France. ⟨hal-00392120⟩