ALD of High-k thin films using carboxylic acids as oxygen supplying agents

E. Rauwel; F. Ducroquet; G. Clavel; P. Rauwel; M.-G. Willinger; I. Matko; N. Pinna

Communication Dans Un Congrès Année : 2008

ALD of High-k thin films using carboxylic acids as oxygen supplying agents

, (1, 2) , , , , ,

1
2

E. Rauwel

Fonction : Auteur

F. Ducroquet

Fonction : Auteur
PersonId : 171005
IdHAL : frederique-ducroquet
ORCID : 0000-0001-8770-9650
IdRef : 081930062

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation

G. Clavel

Fonction : Auteur

P. Rauwel

Fonction : Auteur

M.-G. Willinger

Fonction : Auteur

I. Matko

Fonction : Auteur

N. Pinna

Fonction : Auteur

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Chahla Domenget : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00392123

Soumis le : vendredi 5 juin 2009-15:21:50

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:23:53

Dates et versions

hal-00392123 , version 1 (05-06-2009)

Identifiants

HAL Id : hal-00392123 , version 1

Citer

E. Rauwel, F. Ducroquet, G. Clavel, P. Rauwel, M.-G. Willinger, et al.. ALD of High-k thin films using carboxylic acids as oxygen supplying agents. 15th Workshop on Dielectrics in Microelectronics,, Jun 2008, Berlin, Germany. pp.93. ⟨hal-00392123⟩

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